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    全球工控內存領導品牌宇瞻科技為滿足工業計算機產業面對嚴苛環境的需求，持續為客戶研發具前瞻性的產品與技術，考慮日益受污染環境所影響的電子組件硫化問題，宇瞻科技開發全球第一款適用于含硫環境的抗硫化系列內存，日前已廣受肯定并陸續取得多國專利，全新抗硫化內存不僅能有效解決環境污染產生的硫化腐蝕現象，提升系統整體使用壽命，亦能滿足系統在惡劣環境下長時間穩定運作的需求，確保產品可靠性與耐用度。

    內存模塊的隱形殺手-電阻硫化

   不同于一般標準型內存模塊相對穩定的應用環境，由于工業計算機常需于高溫或高污染等環境下運作，因此工控內存產品需因應各種不同特殊的應用環境予以客制化設計，宇瞻科技藉由抗硫化技術強化內存模塊抵抗高污染環境下硫化腐蝕問題，可大幅提升工業計算機整體系統之穩定性。高污染環境中濃度超標的懸浮微粒含有大量硫化氣體，易與電阻中作為導體的電極層的銀材料化合產生絕緣體硫化銀，導致電阻阻值增加，甚至形成開路而失效，尤以汽車電子、基地臺通訊等設備因常暴露于污染大氣中，出現硫化腐蝕現象影響更甚，宇瞻科技全新抗硫化內存模塊絕佳的抗硫化特色，有效解決電阻硫化所產生的產品可靠度與耐用度問題。

    抗硫化技術與寬溫支持，解決高溫加速電阻硫化問題

    工業計算機長期曝露于高溫及高濃度的硫化物氣體中，高溫會加速電阻硫化的形成，而硫化速度快會縮短產品使用期限。宇瞻科技開發全球第一款工規寬溫抗硫化內存模塊，結合抗硫化并支持寬溫，在高污染的含硫環境與嚴苛的極端氣候下仍能穩定運作。宇瞻科技獨家專利抗硫化內存模塊特別適用于嵌入式工業計算機系統，滿足IPC產業在嚴苛環境下長時間穩定運作的需求。

    革命性的創新技術應用，未來IPC產業主流規范

   電子產品硫化的問題目前逐漸受到重視，尤其對需要高可靠度與長時間運作的工業計算機產品更加重要，抗硫化的技術勢必成為未來IPC產業的主流規范，宇瞻科技根據抗硫化專利技術所制造的抗硫化內存除有寬溫支持，為了讓訊號傳輸更穩定，專為抗硫化內存模塊設計遠超過一般業界采用 3µ標準的10倍 - 厚度高達30µ的金手指(Gold finger)，可靠度表現再升級，為高污染環境的工業控制系統、汽車電子、醫療、國防、網通、戶外基地臺，甚至采礦控制系統等設備，帶來強固的技術與多重防護機能，是在嚴峻環境下運行的工業用系統之最佳解決方案。

宇瞻科技DDR4抗硫化系列內存規格: